集成电路布图设计的四大常见保护途径

      布图设计是高智慧的结晶，研究开发人员在布图设计上投入的太多的心血和资金，对布图设计的仿制，实际上是对研究开发人员合法利益的侵害，随着仿制状况的愈演愈烈，世界各国法律的缺失足以影响到集成电路产业的发展，立法保护的必要性就摆在人们面前。究竟应该采用什么形式的法律来保护布图设计，在各国来说都是一个难题，因为布图设计与作品，发明创造在一些特点比较相同，但是其本身也具有一定的特点，有着其自身的特殊性，因此，应该对布图设计模式进行探讨以寻找出最有效的保护方式。

方法/步骤

1.专利法保护

     专利法保护的客体是发明创造。从大多数国家立法来看，专利法保护的对象都要具备新颖性、创造性和实用性。布图设计本身就是用来生产集成电路产品的，其实用性毋庸置疑。至于新颖性，只要该布图设计是前所未有的，即在新颖性检索中没有落入现有技术或设计，无疑也符合新颖性要求。但是就创造性而言，布图设计则很难达到专利法的创造性高度，因为布图设计是以“集成度”作为技术进步的标志，布图设计的价值就在于集成规模的越来越大，比如说当前先进的布图设计同过去过时的集成电路设计相比，只是集成度的变高，就是同一块芯片上集成的电子元器件数量有所增加而已，从布图设计本身来看，其基本的原理和构造不会发生太大的变化，不具备非显而易见性，更没有出现意想不到的效果，所以按照专利法对发明的创造性要求，仅仅集成规模的扩大并不会构成突出的实质性特点和显著的进步，也就是说，布图设计难以达到专利法要求的创造性。另外，发明专利获得授权，在大多数国家都必须向有关部门提出申请，再经过严格的审查，最终获得授权需要耗费长达几年的时间，而集成电路技术几乎天天都在发展，市面上天天都会出新产品，这就会出现一种状况就是，关于布图设计的授权还没拿到，市场上已经出现集成度更高的集成电路产品，这样的申请以及授权是毫无意义的。